日本 Thermo Riko 大氣用紅外導入加熱裝置 GA 系列 高速升溫點加熱設備 產品概述
GA系列大氣用紅外導入加熱裝置是日本Thermo Riko（株式會社サーモ理工）推出的專業級點加熱設備，利用石英導光棒將匯聚后的紅外光束傳輸至目標樣品，實現高精度局部定點加熱。熱源外置遠離樣品，僅對照射區域升溫，周邊環境幾乎不受熱影響，適用于常壓大氣環境下的各類加熱實驗與工藝。
核心特點
定點局部加熱：紅外光束精準聚焦，僅加熱目標樣品區域，不影響周邊治具與腔體
高速升降溫：秒級快速升溫，最高升溫速率達150℃/s，可模擬瞬時熱沖擊
光路靈活可調：石英導光棒支持360°任意角度調節，水平、向上、向下、斜向照射均可
潔凈加熱方式：紅外光源外置，無加熱絲揮發污染，適用于高潔凈要求場景
狹小空間適配：導光棒可深入狹窄空間，適合磁場環境、原位觀測等特殊加熱需求
技術參數表
| 參數項目 | GA154 | GA198（標準款） | GA198（高速款） |
|---|---|---|---|
| 最高加熱溫度 | 1100℃ | 1300℃ | 1500℃ |
| 加熱光斑直徑 | φ14 mm | φ20 mm | φ20 mm |
| 最大升溫速率 | 100 ℃/s | 100 ℃/s | 150 ℃/s |
| 使用環境 | 常壓大氣 | 常壓大氣 | 常壓大氣 |
| 冷卻用水量 | 1 L/min | 1 L/min | 2 L/min |
| 供電電源 | AC100V | AC100V | AC100V |
型號說明
GA系列提供兩種照射方向機型：
水平照射型：光束水平出射，適用于側面加熱、臥式實驗臺布局
上下照射型：光束垂直上下出射，適用于頂部/底部加熱、立式實驗臺布局
典型應用場景
材料快速熱循環實驗與熱沖擊測試
薄膜、微小試樣局部熱處理
光學原位觀測加熱（同步顯微鏡/光譜設備）
磁場環境下樣品加熱試驗
MEMS、半導體微小器件快速升溫研究
日本 Thermo Riko 大氣用紅外導入加熱裝置 GA 系列 高速升溫點加熱設備 產品結構組成
主機箱體：內置紅外鹵素光源與聚光光學組件
石英導光棒：紅外光束傳輸導管，前端出光加熱樣品
水冷回路：整機強制水冷，持續工作防過熱
可調支架底座：支持高度與角度鎖緊固定
配套溫控電源單元：精準控溫與系統連接
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