PHF?2K?P脈沖型高頻高壓等離子電源｜真空等離子工藝專用脈沖供電主機

PHF?2K?P 脈沖型高頻高壓等離子電源 等離子處理機供電主機 產品簡介：PHF?2K?P脈沖型高頻高壓等離子電源為真空等離子處理系統的專用供電設備，專門為材料等離子表面處理工藝開發。設備采用脈沖輸出工作模式，區別傳統連續式電源，脈沖工作方式能夠有效控制熱輸入，大幅降低被處理工件的熱累積，對于薄膜、高分子等熱敏基材，能夠有效避免受熱變形、老化損傷問題。該電源輸出穩定的高頻高壓，能夠激發真空腔體內產生均勻等離子體，可實現試樣表面清洗除污、表面活化、接枝改性、微刻蝕等多種工藝。設備自帶操作控制面板，工藝參數可以直觀設定與調整，同時預留外部控制信號接口，能夠和真空腔體設備進行聯動，實現整套系統協同運行。設備內置的過載、異常保護機制，提升設備運行安全性。電源主機與處理腔體采用分體布局，安裝擺放靈活，既適合高校科研實驗室做材料工藝研發實驗，也可以用于中小試樣小批量等離子處理生產，廣泛用于高分子、半導體、新材料等領域。

PHF?2K?P 脈沖型高頻高壓等離子電源 等離子處理機供電主機 技術參數

產品核心優勢

• 脈沖輸出架構，減少熱輸入，熱敏材料加工不易發生熱變形損傷；

• 高頻高壓輸出穩定，激發等離子均勻，保障表面處理效果一致性；

• 本機面板參數可調，操作直觀，同時支持外部聯動控制腔體；

• 一機兼容清洗、活化、改性、刻蝕多種等離子工藝，通用性強；

• 多重電路保護，過載異常自動防護，設備運行安全可靠；

• 分體式結構，主機腔體分離，布局靈活，適配實驗室與小產線。

典型應用領域

高分子薄膜、塑膠件等離子表面活化改性；半導體元器件等離子清洗除污；高校科研實驗室等離子工藝實驗；各類基材表面微刻蝕、化學接枝處理；粘接印刷前等離子預處理，提升表面附著力；中小試樣真空等離子整套工藝配套。