柔性纖維導電電刷 半導體CMP研磨墊調節器

日本進口柔性纖維導電電刷 半導體 CMP 研磨墊調節器 產品簡介：CMP研磨墊調節器搭載柔性纖維導電電刷，是半導體化學機械拋光工藝里關鍵配套組件。CMP拋光作業過程中，研磨墊表面會逐步出現釉化、微孔堵塞現象，直接造成拋光去除速率下降、晶圓片內均勻性變差。該調節器通過柔性導電纖維電刷對研磨墊進行原位動態修整，刮除墊面釉化層，疏通研磨墊內部微孔結構，持續維持研磨墊的拋光性能。電刷采用柔性導電纖維復合材料，區別于硬質金剛石修整盤，柔性接觸可以降低對研磨墊的過度切削損耗，同時纖維具備導電能力，可導出拋光過程產生的靜電，減少微顆粒吸附，降低晶圓表面劃傷、顆粒缺陷風險。產品為半導體潔凈等級制造，雜質析出低，盤式組件化結構，可直接裝配在CMP設備修整臂，拆裝更換簡單，兼容4?12英寸各類半導體晶圓CMP拋光設備，廣泛用于半導體產線以及科研實驗室的晶圓拋光工藝。

技術參數

產品核心優勢

• 柔性纖維電刷接觸，避免硬質修整對研磨墊的過度切削，延長研磨墊使用周期；

• 導電纖維結構，有效導出靜電，減少微粒吸附，降低晶圓缺陷；

• 拋光同步原位修整，持續活化研磨墊，穩定拋光去除速率與片內均勻性；

• 半導體潔凈級生產，低雜質析出，適配高要求半導體生產環境；

• 組件盤式結構，拆裝替換便捷，適配主流CMP拋光設備；

• 兼容硅片、化合物半導體等多種晶圓拋光制程。

日本進口柔性纖維導電電刷 半導體 CMP 研磨墊調節器 典型應用領域

半導體硅片CMP拋光產線；化合物半導體晶圓拋光；高校科研實驗室CMP設備配套；光電半導體材料拋光制程；用于研磨墊日常在線維護，保障拋光工藝穩定性。