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雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量

雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量

更新日期：2026-04-15

訪問量：38

廠商性質：經銷商

生產地址：日本

簡要描述：
美國 Excel Precision 1001F 雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量，采用塞曼效應穩頻技術，實現 0.3nm 納米級位移測量，適配半導體、精密機床等場景的高精度標定。

產品概述

本產品為美國 Excel Precision 1001F  雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量，是工業級納米精度位移測量的核心設備，專為半導體制造、精密機床、FPD 面板設備的標定與檢測設計，全球累計裝機量超 5000 臺，可直接兼容 HP 5501B 等經典干涉儀系統，實現低成本升級改造。

核心性能與參數

  • 測量原理：塞曼效應雙頻 He-Ne 激光干涉法，抗環境干擾能力強，適合工業現場長期連續測量

  • 激光波長：632.8nm（標準氦氖激光），最小分辨率 0.3nm，測量精度 ±0.05ppm

  • 輸出功率：0.5mW，頻率穩定性優異，長期使用性能穩定

  • 測量速度：最高 1.0m/s，支持多軸同步測量，適配高速運動平臺

  • 工作環境：溫度 15~35℃，濕度 < 80% RH（無結露），適配無塵室與車間環境

產品特點

  1. 雙頻穩頻技術，抗振動、氣流干擾能力強，測量結果穩定可靠

  2. 納米級超高精度，滿足半導體、超精密加工的亞微米級位移測量需求

  3. 高兼容性設計，可直接替換 HP 5501B 等經典系統，降低改造成本

  4. 寬電壓輸入，適配全球工業場景，連續運行穩定性強

  5. 非標準現貨，可根據客戶需求定制單軸 / 多軸、角度 / 直線 / 平面度等全功能測量系統

美國 Excel Precision 1001F  雙頻氦氖激光干涉儀 納米精度位移測量 適用場景

  • 半導體 / 液晶面板制造：光刻機、檢測設備的位移標定，晶圓 / 玻璃基板產線精度校準

  • 精密機械 / 機床領域：超精密機床、坐標測量機的精度檢測與補償

  • 科研 / 實驗室領域：精密光學實驗、材料力學測試的位移測量


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