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    PK361 全壓型真空計測量技術與應用探究

    發(fā)布時間: 2026-08-04  點擊次數(shù): 39次
    PK361 全壓型真空計由日本熱理工(Thermo Riko)推出,是一款集成復合測量原理的寬量程真空檢測設備,有效解決傳統(tǒng)真空設備量程分段、需要多支規(guī)管搭配使用的痛點,成為超高真空腔體監(jiān)測的常用測量儀器。整套設備由真空規(guī)探頭、信號控制主機兩部分組成,分體式結構便于在狹小真空腔體周邊安裝布局,主機搭載顯示屏可實時讀取壓力數(shù)值,同時支持信號對外傳輸,方便接入自動化控制系統(tǒng)。
    該真空計融合皮拉尼熱傳導測量與冷陰極電離兩種檢測原理,實現(xiàn)從常壓到超高真空區(qū)間連續(xù)測量。在低真空區(qū)域依靠皮拉尼規(guī)基于氣體熱傳導特性采集壓力數(shù)據(jù);進入高真空區(qū)間后,設備自動切換至冷陰極電離模式,捕捉稀薄氣體電離產(chǎn)生的微弱電流換算真空度。兩種模式無縫切換,全程無需人工更換規(guī)管,消除不同真空規(guī)切換帶來的數(shù)據(jù)斷層問題,量程下限可達 5×10??Pa,覆蓋絕大多數(shù)真空工藝所需壓力區(qū)間。
    潔凈度表現(xiàn)是 PK361 的突出優(yōu)勢。設備可搭配金屬密封法蘭選型,摒棄橡膠密封件,減少密封圈出氣對真空腔體造成污染,十分重視氣體雜質含量的半導體設備、表面物理實驗腔體均可穩(wěn)定使用。設備抗氣流擾動能力較強,在真空泵持續(xù)抽氣、腔體存在微量氣流流動工況下,數(shù)據(jù)漂移幅度較低,能夠長期維持穩(wěn)定監(jiān)測。
    目前 PK361 廣泛應用在多個真空領域。半導體制造的薄膜沉積、等離子刻蝕設備依靠它實時監(jiān)控腔體真空環(huán)境;各類科研超高真空實驗平臺、離子束設備、真空鍍膜機組,也常采用該型號作為標準壓力監(jiān)測組件。除此之外,真空檢漏系統(tǒng)、分子泵性能測試平臺同樣能夠發(fā)揮其寬量程測量優(yōu)勢。
    想要延長設備使用壽命,日常維護工作不容忽視。冷陰極電極長期工作容易吸附污染物,當測量出現(xiàn)明顯偏差時,需要對規(guī)管腔體進行清潔處理;安裝階段注意保證法蘭密封面無劃痕、雜質,防止出現(xiàn)泄漏干擾測量精度。同時,應當避免規(guī)管直接接觸腐蝕性工藝氣體,必要時增加過濾保護組件。
    真空技術持續(xù)向著更高潔凈度、自動化方向發(fā)展,一體化全量程真空測量儀器需求持續(xù)上升。PK361 這類復合型全壓真空計簡化真空系統(tǒng)配套結構,降低設備搭建成本,后續(xù)也將在更多前沿真空工藝與科研實驗場景持續(xù)普及。


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