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    微米級鏡面噴涂工藝：Fusoseiki MK-3 在精密光學涂層中的應用研究

    發布時間： 2026-01-06　　點擊次數： 157次
    　　節拍。
     
    　　低重力供液：0–140 mL min?¹ 無脈動線性調節，配合齒輪泵閉環反饋，厚度重復性 ±1 nm(以 550 nm 波長反射率監控)。
     
    　　三、工藝路線與實驗設計
     
    　　步驟 1：基板清洗
     
    　　– 順序超聲(RBST105→去離子水→丙酮→乙醇)，60 °C 熱風 30 min；
     
    　　– UV/O? 處理 10 min，表面接觸角 < 5°，確保后續液滴鋪展。
     
    　　步驟 2：噴涂參數矩陣
     
    　　采用 Box-Behnken 設計，變量：槍距 A(150–250 mm)、霧化壓 B(0.15–0.25 MPa)、走槍速度 C(50–150 mm s?¹)、供液量 D(20–60 mL min?¹)。響應值：膜厚均勻性 U = (t_max – t_min)/t_avg、粗糙度 Rq、激光損傷閾值。
     
    　　步驟 3：在線監測
     
    　　– 激光位移傳感器(KEYENCE LJ-V7300)掃描，實時輸出 2D 厚度云圖；
     
    　　– 光譜橢偏(J. A. Woollam M-2000)閉環反饋，終止條件：|n·d – target| < 0.2 nm。
     
    　　四、結果與討論
     
    　　厚度均勻性
     
    　　參數：A = 200 mm，B = 0.20 MPa，C = 100 mm s?¹，D = 30 mL min?¹，單道濕膜 0.8 µm，烘干后 95 nm。在 Ø 150 mm 區域測得 U = 1.7 %，優于旋涂對比樣 4.5 %。
     
    　　表面粗糙度
     
    　　AFM 10 µm × 10 µm 掃描顯示 Rq = 0.28 nm，接近基板本征值 0.25 nm；無桔皮、無 Mie 散射點。
     
    　　光學性能
     
    　　– 193 nm 增透膜：單面反射率由 7.2 % 降至 0.15 %(VUV 分光光度計)；
     
    　　– 355 nm 高反膜：損傷閾值 18 J cm?²(8 ns，1-on-1)，較 e-beam 蒸鍍提升 22 %。
     
    　　工藝放大
     
    　　在 Ø 400 mm、R 2 m 的輕量化 SiC 鏡坯上完成 27 層 HfO?/SiO? 高反膜，面形變化 ΔPV < 30 nm(ZYGO DynaFiz 干涉儀)，滿足太空激光通信 λ/20 要求。
     
    　　五、結論與展望
     
    　　Fusoseiki MK-3 通過“微米級霧化 + 低動能沉積”組合，成功將噴涂工藝推進到光學級精度，為復雜曲面、大口徑及熱敏感基底提供了低應力、高效率的涂層方案。未來工作將聚焦：
     
    　　與超臨界 CO? 干燥集成，消除毛細力導致的龜裂；
     
    　　開發 1 μm 以下超細霧滴噴嘴，實現單納米層厚控制；
     
    　　結合 AI 視覺閉環，實現“邊噴邊拋”一體化智能制造。
     
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